Współorganizatorem I edycji, w której studenci WAPP odnieśli wielki sukces, był Wydział Architektury Politechniki Poznańskiej.
Kapituła Konkursowa w kategorii „Zadany projekt motywu – projekt Logo” wybrała jako zwycięskie (ex aequo) prace Pana Oskara Czajkowskiego oraz Pana Pawła Woźniaka.
Wyróżnienia zdobyły trzy prace, których autorami są:
– Pani Kaja Bursa,
– Pani Karolina Mizeraczyk,
– Pani Katarzyna Stupałkowska.
W kategorii „Samodzielnie Zainicjowany Projekt” Kapituła Konkursowa wybrała jako zwycięską pracę Pani Doroty Woźniak, przyznając także dwa wyróżnienia Pani Marcie Flak oraz Panu Radosławowi Ptaszyńskiemu.
Gratulując Laureatom, zeszłorocznej edycji, zapraszamy do udziału w II edycji konkursu Art & Design Competition 2020: „Mind & Senses in Art & Design”, organizowanego w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC).

Gospodarzem tegorocznej edycji jest Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim.
Tematem konkursu „Mind & Senses in Art & Design”, adresowanego do studentów i pracowników wszystkich uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim, są indywidualne interpretacje oraz odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji.
Uczestnicy projektu zobowiązani są do przygotowania jednej pracy w wybranej przez siebie kategorii tematycznowarsztatowej.
Prace konkursowe należy składać na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej przy ul. Akademickiej 7 w Gliwicach w terminie do dnia 15 grudnia 2019 r.

Osoby uprawnione do kontaktu w sprawie konkursu są:
1) dr hab. inż. arch. Natalia Bąba-Ciosek, prof. PŚ
2) dr hab. inż. arch. Magdalena Żmudzińska-Nowak, prof. PŚ
Szczegółowe informacje dotyczące konkursu, regulamin oraz formularz zgłoszeniowy dostępne są na stronie https://www.polsl.pl/en/Pages/artanddesign.aspx